レーザー洗浄は、さまざまな表面から汚染物質やコーティングを除去するために使用される強力な技術です。 高反射基板に関しては、それぞれ独自の特性と構造を備えたいくつかのタイプが利用可能です。
1. 金属:
金属は反射率と耐久性に優れているため、高反射基板としてよく使用されます。 高反射基板のレーザー洗浄に一般的に使用される金属には次のようなものがあります。
アルミニウム：アルミニウム基板は軽量であり、高い熱伝導率を持っています。 これらは航空宇宙産業で広く使用されています。
銀：銀基板は、幅広い波長にわたって優れた反射率を提供します。 これらは光学ミラーやソーラーパネルに応用されています。
金：金基板は、優れた耐腐食性と高い反射率で知られており、さまざまな電子および装飾用途に利用されています。
2. ミラー:
高反射ミラーはレーザー システムの重要なコンポーネントです。 平面鏡、凹面鏡、凸面鏡など、さまざまな構成があります。 これらのミラーは、吸収を最小限に抑えてレーザー ビームを反射するように設計されており、レーザー クリーニング中のエネルギー効率を最大限に確保します。
3. 光学コーティング:
光学コーティングは、基板の反射特性を高めるために基板の表面に塗布される材料の薄い層です。 これらのコーティングは、レーザー光の特定の波長を効率的に反射するように設計されています。 高反射基板に一般的に使用される光学コーティングには、誘電体コーティング、金属コーティング、干渉コーティングなどがあります。
4. 半導体:
半導体は、レーザー洗浄用途に使用される別のタイプの高反射基板です。 これらは、高い反射率や調整可能な光学特性などのユニークな特性を備えています。 ガリウムヒ素や窒化ガリウムなどの半導体は、レーザーダイオードや高出力レーザーシステムで広く利用されています。
結論として、レーザー洗浄用途には数多くの種類の高反射基板が使用されています。 これらには、金属、ミラー、光学コーティング、半導体が含まれます。 各基板タイプは異なる特性と構造を備えているため、さまざまなレーザー洗浄用途に適しています。
